为量子计算锦上添花的成像技术来了！

这支来自奥地利林茨大学、伦敦大学学院、苏黎世联邦理工学院和瑞士洛桑联邦理工学院的国际团队将现有成熟的显微技术——扫描微波显微镜（Scanning Microwave Microscopy, SMM）运用到对硅芯片中人工掺入杂质的检测当中，整个成像过程不会对芯片产生任何损害（半导体中会被掺入杂质来增强其导电和光学性质）。

磷-硅材料成像

研究者使用扫描微波显微镜扫描样本，具体探测了硅晶表层下成一定规律排列的磷原子的电学性质。在这一方法下，研究者成功检测了在表面4-15纳米之下的1900-4200个紧密排列的原子。

当然，诸如二次离子质谱分析法（Secondary Ion Mass Spectrometry, SIMS）之类的技术也可以用于检测半导体中人工参入的杂质，但是扫描微波显微镜的主要优势是，它不会对样本有任何损坏。

在 IEEE Spectrum 的一个邮件采访中，本实验的领导者、奥地利林茨大学的 Georg Gramse 表示：

SMM和VNA对材料的测量结果

Gramse最后说：